知识中心
导航
知识中心

EUV:极端紫外线光刻技术

EUV光刻是一种软x射线技术。
受欢迎程度

描述

极端紫外线(EUV)光刻是一种软x射线技术,波长为13.5海里。今天的EUV扫描仪使决议22纳米半个球场。在一个系统中,一种EUV光源利用高功率激光等离子体。反过来,这有助于发出短波长光在真空室。室,行为的系统使用几个多层反射镜,反射光线通过层间干扰。

EUV最初将被引入45/40nm流程节点,但电源达到足够的吞吐量问题迫使多个延迟。它被认为是一个关键的组件在16/14nm的避免双重模式使用193海里浸泡。EUV系统开始航运7海里的过程。

7海里,单一模式与EUV是可能的,但与今天的拒绝是一个相对缓慢的操作,可能导致不必要的随机或随机缺陷模式,影响产量。

在5 nm,双模式需要即使EUV关键层。即使它需要更昂贵的步骤,双模式意味着特性可以放松的场地,然后处理,从而减少缺陷的数量。

EUV是如何工作的

一个关键EUV系统源。基于laser-produced-plasma(垂直距离)技术、EUV光源由几个部分组成,包括二氧化碳(CO²)激光。激光,它提供了权力的来源,在sub-fab坐落在工厂地板上。

激光器由两个部分种子激光器(pre-pulse和主脉冲)和功率放大器。今天的EUV使用20-kilowatt激光源。

实际的EUV源坐落在工厂的地板上。附加到EUV扫描仪,源由液滴发生器,收集器和真空室。在EUV,这个过程发生在一个真空环境,因为几乎所有吸收EUV光源。

液滴发生器是一个小容器。在操作,锡是加载到液滴发生器,然后加热。在这一点上,火车的小锡滴液滴发生器的流出,通过一个过滤器,进入真空室的来源。液滴直径25微米,以每秒50000次的速度下降。

船,有一个相机。在美国商会液滴通过一定的地位。然后,镜头告诉sub-fab中的种子激光发射一个激光脉冲进入主真空室。这叫做pre-pulse。

然后是真正困难的部分。pre-pulse激光击中球锡滴,把它变成一个薄饼样的形状。然后再激光单元火灾,代表主要的脉搏。主脉冲击中薄饼样锡液滴蒸发。

在这一点上,锡蒸汽变成等离子体。反过来,等离子体发出EUV 13.5纳米波长的光。

我们的目标是精确地滴。这决定了激光功率变成EUV光源,这称为转换效率(CE)。

与此同时,一旦生成EUV光源,光子多层镜叫做收集器。光反射收集器和穿过一个中间重点单位到扫描仪。

扫描仪,光反射的复杂方案10表面或多层镜。首先,光线通过一个可编程的照明器。这形成一个瞳孔的形状的适量的光照亮EUV面具。

然后,EUV光源的面具,也反射。六多层反射镜的光学投影。最后,光照射到6%的晶片在一个角度。每个多层镜子反映出约70%的光。根据各种计算,EUV扫描仪本身的传输速度仅为4%。

然后点击光致抗蚀剂在晶圆上。


半导体器件:物理和技术

极端紫外线(EUV)光刻

EUV光刻

多媒体

曲线的全芯片教师

多媒体

多媒体

多媒体

多媒体

Baidu