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Xyalis

项目工具CMP金属填充和多晶片布局优化
受欢迎程度

描述

Xyalis提供了一个完全集成的环境构建复杂的分划板以及1 x面具,为死去的规则排列和多晶片(”)或航天飞机项目。

自1995年以来,一个化学-机械抛光(CMP)一步半导体制造过程中采用平晶圆表面金属层之间。金属密度变化会严重影响CMP过程,因此,设计师需要插入“哑巴”瓷砖设计有帮助每个金属层的表面变平。
公司开始以来,XYALIS metal-fill提供工具来解决这个问题。

XYALIS在2002年推出了一个基于模型的CMP过程估计和仿真瓷砖插入工具。插入“假”金属贴片的方法在所有空领域并不满意,因为它引入了太多的寄生。传统方法没有成功地解决这一问题,有必要引入一个基于模型的算法来得到最好的结果和减少插入瓷砖的数量,同时达到最高产量。

XYALIS在2006年推出了一个新的工具,假人插入目标65海里的流程和下面。这个新工具的优点结合“基于模型”的方法,同时保持一个兼容的设计规则检查。

XYALIS在2010年推出了面向生产产量的位置”的工具。

2012年XYALIS面具订购管理引入了一个工具,建立到一个关系数据库和一个Web应用程序,并使用工业半P10半导体球员之间的数据交换格式(设计中心、晶圆厂)和Maskshops。

  • 由:Eric Beisser1998年
  • 总部:法国格勒诺布尔
  • 已知:CMP、化学-机械抛光,假插入,
  • 网络:URL
  • 类型:公司

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