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OPC技术

解决方案RET, OPC和PSM
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描述

OPC技术成立于1996年,地址在半导体制造企业越来越需要提高产量和延长生命的一代光学光刻设备深亚微米工艺技术。公司开发的计算机辅助设计技术(TCAD)软件工具基于专有校正算法和模型,改进了模式富达的过程从集成电路布局设计通过掩模制造转移到实际结构硅。
开发的软件在光学光刻分辨率增强。Icluded光学邻近校正软件(OPC)和相移的面具(PSM)的设计。


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