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林的研究

晶圆制造设备
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描述

Lam Research为半导体制造制造产品。

David K. Lam于1980年在加州圣克拉拉创立了这家公司。该公司于1984年上市。

  • 总部:美国加州弗里蒙特
  • 网络:URL
  • 类型:公司

创新,产品:

    • 1981年发布的AutoEtch。
    • 1987年的彩虹蚀刻系统。
    • 第一个MSSD系统,概念1 PECVD在1987年。
    • 1988年发明单片自旋清洁技术。
    • 1991年生产的SP系列自旋清洗系统。
    • 1992年生产的变压器耦合等离子体导体腐蚀产品。
    • 1993年发布概念二ALTUS CVD钨系统。
    • 1995年推出第一款双频受限介质腐蚀产品。
    • 1996年引进SPEED HDP-CVD系统。
    • 1998年推出SABRE ECD系统。
    • 2000年发布2300蚀刻平台。
    • 2000年推出VECTOR PECVD系统。
    • 2003年推出达芬奇纺纱清洁产品。
    • 2004年推出第一代Kiyo和Flex蚀刻产品。
    • 2004年引进ALTUS钨膜屏障CVD系统。
    • 2005年推出SOLA UVTP膜处理系统。
    • 2007年,第一批Syndion系统用于透硅蚀刻。
    • 2007年引进DV-Prime自旋清洗系统。
    • 2007年推出Coronus等离子斜面清洗系统。
    • 2008年推出GAMMA GxT和GAMMA G400带钢系统。
    • 在2010年宣布SABRE 3D ECD系统用于晶圆级封装。
    • 2014年推出3D NAND产品套件:ALTUS Max ICEFill W-CVD, VECTOR Strata PECVD, Flex F系列电介质腐蚀。
    • 2014年推出多种图案的解决方案:VECTOR、Kiyo F系列导体蚀刻产品。

收购/合并:

  • 2006年收购Bullen Semiconductor(现为Silfex, Inc.)。
  • 2008年收购SEZ AG(现Lam Research AG)。
  • 2012年与Novellus Systems合并。
  • 收购了Coventor公司。在2017年。

相关的组织:

Lam Research标志

  • 类型:公司

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