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光学检验

在晶圆片上发现缺陷的方法。
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描述

光学检测分为明场和暗场两个主要部分。暗场检测工具测量以较低角度反射的光。布赖特菲尔德检测技术是工厂的主力技术,它以更高的角度测量光线。它使用宽带光来照亮晶圆。然后,光被收集起来,图像被数字化。

Brightfield测量的是25到30度之间的反射光。格雷菲尔德在30到40度之间。剩下的就是暗场了。

光学检测有物理限制,尽管这取决于系统。根据ASML和其他公司的数据,Brightfield在SRAM中的灵敏度可低至<5nm,而darkfield则<15nm。通常,这些系统的吞吐量为1个或更多晶圆每小时,尽管这也有所不同。

这些数字是一个移动的目标,因为供应商继续在光学方面进行改进。光学也在向新的方向发展,例如基于明场、灰场和暗场技术组合的晶圆检测工具。

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