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边缘放置错误(EPE)

IC布局的预期特征和打印特征之间的差异。
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描述

边缘放置误差(EPE)是指IC布局的预期特征和打印特征之间的差异。它包括在精确的位置上绘制微小特征的图案。例如,一个特征可以是一条线,这条线有左右边。但在设备中,线条及其边缘必须精确并放置在准确的位置。然后,一个联系人可能会落在设备的那条线上。如果这些不精确,就会导致错位或EPE。如果在生产流程中突然出现一个或多个EPE问题,设备就会出现短路或成品率低的情况,这可能导致整个芯片失效。

晶圆厂使用的光刻工具是否具有多种图案、极紫外(EUV)光刻或其他技术类型并不重要。总体目标是将特性放在正确的位置并避免epe。这适用于设备的所有部分。

EPE可能听起来微不足道,但挑战在每个节点上都在不断升级和堆积。这些问题是由工厂的一系列问题引起的。在高级节点的精确位置对特征进行图形化仍然是可能的,但是这个过程变得更加昂贵和困难。误差范围降至个位数纳米,并有埃级公差。不用说,行业需要密切关注EPE背后的问题和潜在的解决方案。

大约20年前,平版印刷工人发明了一个术语,称为边缘放置误差,其中涉及几个神秘的图案和计量概念。但在22纳米/20纳米逻辑节点上,这个话题开始升温,当时芯片制造商在晶圆厂从单一模式技术转向了多种模式技术。

图形化是集成电路制造流程的关键环节之一。在制模过程中,光刻扫描仪将光暴露在晶圆上的选定位置,产生构成器件的微小图案或特征。多年来,光刻工具供应商已经开发出波长更短的光源,从而可以打印更小的特征。


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