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自对准双模式(SADP)

双模式的一种形式。
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描述

自对准双模式(SADP)是一种双模式。它有时被称为球场,垫片或sidewall-assisted双模式。SADP过程使用一个光刻一步和额外的沉积和蚀刻步骤定义一个spacer-like特性。SADP,用于扩展NAND 1 xnm节点,现在进入逻辑。在SADP过程中,第一步是在基板上形成芯棒。然后,覆盖着一层沉积模式。淀积层然后蚀刻,反过来,间距器形式。最后,顶部部分进行了化学机械抛光(CMP)的步骤。


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