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光刻k1系数

系数与光刻工艺的难度有关
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描述

每一代集成电路都基于更小的几何图形,这就需要提高用于绘制它们的光刻技术的分辨率。投影系统能打印的最小特征尺寸约为:
MFS = k1 x / NA

地点:

MFS是最小特征尺寸或临界维数
是使用的光的波长
NA是从晶片上看到的透镜的数值孔径
k1是一个包含了过程相关因素的系数。

该图显示了一系列特征尺寸的k1趋势,以及一些用于将功能扩展到更小的几何图形的软件技术。


图表由导师图形

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