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d2

为改进eBeam技术提供了计算设计平台。
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描述

D2S成立于2007年,使用复杂形状和现有的eBeam掩模写入设备,实现20nm及以下工艺节点的先进掩模设计。
该公司提供了一个结合粗粒度和细粒度并行的计算设计平台,以模拟1亿亿像素的剂量图。D2S还领导了电子束倡议,这是一个专注于电子束技术的教育和推广组织。成员包括许多非常大的公司,来自制造、测试和EDA领域的各个方面。

  • 总部:美国加利福尼亚州圣何塞
  • 已知:掩模光刻工具
  • 网络:URL
  • 其他名称:设计2硅
  • 类型:公司
  • 由:阿基》2007
  • 类型:公司

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