中文 英语
知识中心
导航
知识中心

Nanoimprint光刻

一种热压印工艺类型的光刻。
受欢迎程度

描述

纳米压印光刻(NIL)类似于热压印工艺,它可以在结构上实现精细的特征。在空模板中,所需要的结构被绘制到主模板或模具上。模板是用电子束或扫描仪制模的。然后,使用空模工具,将具有所需图案的模板压成铸在基板上的薄抗蚀剂。模板被移除,从而复制基板上的图案。

纳米压印技术是一种低成本的单次曝光技术,不需要昂贵的光学器件和多种图案。但该技术在缺陷、覆盖和吞吐量方面存在一些问题,阻碍了它成为更主流的平版印刷技术。今天,NIL主要用于非半导体应用,但已被东芝用于平面NAND和即将出现的3D NAND。其他市场包括光子学和生物技术。

Baidu