中文 英语
知识中心
导航
知识中心

多束电子束光刻

电子束光刻的一种先进形式
受欢迎程度

描述

多束电子束光刻是电子束、无掩模或直写光刻的一种先进形式。与单束电子束不同,多束电子束在单个工具中使用多个电子束。这个想法是为了提高直写光刻应用的吞吐量。它还具有吸引力,因为它可以在不需要掩模的情况下实现很好的分辨率。

多束电子束技术也用于掩模写入,其速度比单束电子束快得多。多波束写入时间是独立的射击计数和大约需要10个小时的任何类型的面具。虽然对于不太复杂的掩模不理想,但对于EUV和一些光学掩模是有用的。在定位精度、CD控制和数据处理方面仍然存在挑战。

多媒体

技术讲座:反向光刻

Baidu