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发光器件看到掩模编写器的增长机会

新型掩模编写器的销售预计将在所有领域有所增长。

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多波束掩模编写器(mbmw)是掩模编写器领域的新成员,因此增长预测并不令人惊讶。事实上,eBeam Initiative调查的90%的行业知名人士认为,未来三年MBMW的新购买量将会增加,如图1所示。从这张图表来看,行业知名人士预测,新型掩模编写器的销量在所有领域都将增长。在这个12分钟的视频,三位专家小组成员就乐观情绪背后的原因以及市场可能仍存在的缺口提供了有价值的见解。

这个视频讨论,由D2S的Aki Fujimura主持,从市场的复杂端开始,mbmw被采用,因为它们的写入时间与掩模上形状的复杂性无关。Synopsys的Tom Cecil解释说,如果你使用mbmw,写时间对于曲线形状的掩模来说不再是一个问题。从Tom的角度来看,mbmw最重要的影响是启用了曲线遮罩。他认为曲线形状将被广泛应用,因为它们可以提高晶圆分辨率,但前提是现在写入时间已经解决,可以克服一些其他问题。Tom呼吁业界共同努力,解决曲线采用的瓶颈,如数据量。Photronics公司的Chris Progler对此表示同意,并指出了诸如检查和维修等其他挑战。Chris继续回顾了“只修复打印”模型的想法,以使用更复杂的曲线掩模。


图1:根据eBeam Initiative Luminaries,掩模写入器细分市场的增长机会调查从2021年7月开始。

小组讨论回到了前面讨论过的中端掩模市场增长的话题博客.Chris Progler认为中端市场是商业掩模制造商最激动人心的机会,因为asic的复苏和ic的广泛使用,尤其是在中国和亚洲其他地区。Chris认为掩模写入器在高速、中端写入器方面存在差距,可以针对40纳米和28纳米节点,每个掩模的写入速度低于2小时,但拥有成本必须与价格一致。

Mycronic的Mikael Wahlsten表示,拥有成本一直是新Mycronic SLX系列激光书写器开发计划的重点,该系列于2019年底推出。据Mikael报道,截至2021年9月28日,已经售出了15台SLX。正如eBeam Initiative过去的调查报告所述,行业中超过70%的掩模是由激光书写器书写的。

小组成员指出,正如eBeam Initiative调查预测的那样,从高级节点到成熟节点,掩模编码器的新销售机会全面存在。您可以观看整个82分钟的面板视频,涵盖EUV掩模、曲线掩模和深度学习的其他主题在这里。



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