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光刻

• 推动EUV掩模修复的限制：使用下一代基于电子束掩模修复工具寻址子10 nm缺陷

  2021年12月7日发布

• 用于设备和系统光刻路线图的国际路线图

  2021年11月19日发布

• High-Na Euvl：光刻的下一个重大步骤

  2021年10月5日发布

• 逆光刻技术：30年从概念到实用，全芯片现实

  2021年10月1日发布

• 极大的曝光场W /精细分辨率光刻技术，使下一面板级别先进的包装

  2021年8月5日发布

• 用于多光谱PTYCHOGAL的EUV聚焦光束的剪裁空间熵

  2021年7月27日发布

• EUV光刻底层优化方法

  于2021年7月21日发布

• 通过湿化学功能化改进EUV Si HardMask性能

  2021年5月20日发布

• 高温工艺平移旋转碳材料的研制

  2020年8月20日发布

• 用于沟槽和通过阵列的超级平面化材料

  2020年5月21日发布
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