汉阳大学和德克萨斯大学达拉斯分校的新技术论文。
摘要
“薄膜是一种薄膜结构，可以保护极紫外(EUV)口罩在曝光过程中不受污染。然而，由于EUV光子的吸收，其有限的透光率会引起不必要的加热。通过提高薄膜的发射率来提高薄膜的热稳定性，可以避免EUV薄膜的破裂。然而，薄膜的发射率数据在文献中并不容易获得，其数值对厚度非常敏感。因此，我们研究了发射率与结构参数的相关性，如厚度、表面粗糙度和晶粒尺寸。我们利用理论和实验方法发现了电阻率和发射率之间的相关性。通过改变Ru薄膜的晶粒尺寸，通过实验验证了电阻率与发射率的关系，并采用Lorentz-Drude模型进行了验证。最后，我们提出了一种开发具有更好热稳定性的EUV薄膜的方法，可以承受高功率EUV光源。”
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Wi,中华民国;张成泽,Y.J.;金,h;曹,k;用于EUV光刻的薄膜的电阻率和发射率的研究。膜2022,12,367。https://doi.org/10.3390/membranes12040367。
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