中文 英语
首页
技术论文

EUV光罩的粒子去除

受欢迎程度

这篇题为“基于afm的Hamaker常数测定与盲尖端重建”的技术论文刚刚由ASML、亚琛工业大学和AMO公司的研究人员发表。

该研究报告了一种基于真空原子力显微镜的方法,用于从EUV光罩中去除颗粒。

找到这里是技术文件。2022年8月出版。

Ku, B., van de Wetering, F., Bolten, J., Stel, B., van de Kerkhof, M. A., Lemme, M. C.,基于afm的盲尖端重建Hamaker常数测定。放置板牙。科技,2022,2200411。https://doi.org/10.1002/admt.202200411。

相关的材料
AFM知识中心
纳米片场效应管驱动计量和检测的变化
检测深层或隐藏结构内部的缺陷需要多工具的方法。
光掩模短缺在成熟节点上增长
设备老化和需求上升推高了价格,减缓了生产。
发现和预测EUV随机缺陷
在5/3nm的不同寻常的效果,包括更少的缺陷与双图案。



留言回复


(注:此名称将公开显示)

Baidu