人员介绍“应力张量中构造的精确校正图错误,甚至在微观结构或涂料应用到光学表面。这些中构造可以使用标准的半导体制造设备制作的。”
从麻省理工学院和亚利桑那大学的新研究报告,由美国宇航局资助的。
文摘
“访问自由表面的巨大价值mass-sensitive应用,如空间光学或metaform光学组件需要制造过程适合计算薄基片。我们提出应力张量中构造的精确校正图错误,甚至在微观结构或涂料应用到光学表面。这些中构造可以捏造使用标准的半导体制造设备。我们介绍三种不同的每个空间中构造类型控制所需的三个薄基片表面应力张量分量,每个提供相对优势。我们的所有三个中构造的臀部上硅晶圆图生成和展示自由的修正。应力张量中构造的薄底物可以使低成本的准确计算对于轻量级和metasurface光学将变得越来越重要。”
找到开放获取技术论文。找到麻省理工的新闻发布在这里。2022年出版。
热热姚明,布兰登Chalifoux,拉尔夫·k . Heilmann和Mark l . Schattenburg“应力张量中构造的确定性计算薄基片,“视9,438 - 444 (2022)。
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