标签:多波束掩模写入器

多波束掩模编写器是游戏规则的改变者
通过简•威利斯- 2022年12月22日-意见:0

eBeam Initiative在2022年第11次年度灯具调查中报告了对多光束掩模写入器的强劲采购预测，从而实现了EUV和曲线掩模的增长。在9月下旬与SPIE掩模技术会议同时举行的活动中，专家小组讨论了曲线掩模采用的剩余障碍。行业名人代表44家公司…»阅读更多

2022年调查:灯具报告EUV对掩模趋势的积极影响
通过eBeam倡议- 2022年10月19日-评论:0

eBeam Initiatives从2022年7月开始的第11次年度灯具调查显示•EUV被视为对掩模收入的积极影响•EUV仍然是购买多波束掩模编码器的首要原因•今年多波束掩模编码器可用性问题较少的情况下，对制造曲线掩模的能力的信心仍然很高。»阅读更多

面具景观的变化
通过简•威利斯- 2022年5月19日-意见:0

半导体掩模在经历了多年相对较小的变化之后，在过去几年中经历了一些重大的技术变化。多束掩模写入器和极紫外(EUV)光刻等新技术是进入大批量生产的重大突破。与这些技术相关的一个新趋势是在掩模上使用曲线特征。阿基…»阅读更多

今天可以制造曲线掩模
通过简•威利斯- 2022年4月21日-意见:0

多波束掩模写入器(mbmw)和gpu加速曲线ILT使今天的曲线掩模成为可能。尽管工艺窗口的改进带来了好处，但曲线掩模的采用是缓慢的。eBeam Initiative在2021年调查的行业知名人士将掩模检测和基础设施列为采用的最大障碍，如图1所示。然而，只有4%的人认为……»阅读更多

发光器件看到掩模编写器的增长机会
通过简•威利斯- 2022年1月20日-意见:0

多波束掩模编写器(mbmw)是掩模编写器领域的新成员，因此增长预测并不令人惊讶。事实上，eBeam Initiative调查的90%的行业知名人士认为，未来三年MBMW的新购买量将会增加，如图1所示。根据这张图表，行业知名人士预测，新型掩模编写器的销量将在…»阅读更多

多波束掩模写入器如何在掩模上启用曲线形状?
通过简•威利斯- 2021年4月15日-意见:0

在本博客的上一篇文章中，多波束掩模写入被认为是消除制造曲线掩模形状障碍的方法之一。我们的博客系列继续一个教育视频，解释为什么和如何多波束作家减少曲线掩模形状的写入时间，发生在eBeam倡议小组讨论期间，在20…»阅读更多

EUV在3nm及以下的挑战和未知
通过马克LaPedus- 2020年11月19日-评论

芯片行业正在为3nm及以上的极紫外(EUV)光刻技术的下一阶段做准备，但挑战和未知仍在继续堆积。在研发方面，供应商正在研究各种新的EUV技术，如扫描仪、电阻和掩模。这些将是达到未来工艺节点所必需的，但它们比目前的EUV pro更复杂和昂贵。»阅读更多

eBeam Initiative调查报告乐观的掩模市场前景
通过简•威利斯- 2020年10月5日-评论:0

每年，eBeam Initiative都会进行调查，为塑造半导体行业的关键趋势提供有价值的见解。今年，代表整个半导体生态系统42家公司的行业名人参加了2020年eBeam Initiative灯具调查。调查中89%的受访者预测，2020年掩模(掩模)收入将保持…»阅读更多

EUV掩模的检验、制模
通过马克LaPedus- 2019年11月6日-评论:0

《半导体工程》杂志与Photronics公司技术和战略总监、杰出的技术人员Bryan Kasprowicz坐下来讨论光刻和掩模趋势;蔡司战略业务发展和产品战略总监Thomas Scheruebl;NuFlare的高级技术专家Noriaki Nakayamada;以及D2S首席执行官藤村昭。符合什么……»阅读更多

EUV掩模的混合图片
通过马克LaPedus- 2019年9月16日-评论:0

据eBeam Initiative发布的最新调查显示，随着极紫外(EUV)光刻技术的投入生产，该技术的置信水平继续增长，但EUV掩模基础设施仍然好坏参半。EUV掩模基础设施涉及几种处于不同发展阶段的技术。一方面，对几种掩模工具技术的前景进行了展望。»阅读更多

←老帖子

  • 赞助商

关于

导航

与我们联系

版权所有©2013-2023 SMG |服务条款|隐私政策
Baidu