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简•威利斯

简•威利斯

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简·威利斯是Calibra的独立顾问。她曾在Cadence, Synopsys和Hewlett-Packard等公司担任过各种高级职位。她拥有密苏里大学哥伦比亚分校的电气和计算机工程学士学位，以及斯坦福大学的工商管理硕士学位。

作者最新文章

高na EUV使EUV掩模的未来更加复杂
通过简•威利斯- 2022年11月17日-评论:0

eBeam Initiative在2022年进行的第11次年度灯具调查报告称，EUV推动了半导体掩模行业的增长，而专家小组在9月底与SPIE掩模技术会议同时举行的活动中引用了转向高na EUV的一些复杂性。代表来自整个半导体生态系统的44家公司的行业名人…»阅读更多

热爱戏剧和面具制作
通过简•威利斯- 2022年7月5日-评论:0

自13年前eBeam Initiative成立以来，Naoya Hayashi一直是我们的朋友和重要贡献者。我们只是他在DNP 45年的职业生涯中所接受和支持的众多兴趣之一。现在轮到我们拥抱他，感谢他在今年6月退休后，作为DNP的第一位研究员，追求他的下一个篇章。阿基富士山……»阅读更多

面具景观的变化
通过简•威利斯- 2022年5月19日-意见:0

半导体掩模在经历了多年相对较小的变化之后，在过去几年中经历了一些重大的技术变化。多束掩模写入器和极紫外(EUV)光刻等新技术是进入大批量生产的重大突破。与这些技术相关的一个新趋势是在掩模上使用曲线特征。阿基…»阅读更多

今天可以制造曲线掩模
通过简•威利斯- 2022年4月21日-意见:0

多波束掩模写入器(mbmw)和gpu加速曲线ILT使今天的曲线掩模成为可能。尽管工艺窗口的改进带来了好处，但曲线掩模的采用是缓慢的。eBeam Initiative在2021年调查的行业知名人士将掩模检测和基础设施列为采用的最大障碍，如图1所示。然而，只有4%的人认为……»阅读更多

正确的项目是采用深度学习掩模的关键
通过简•威利斯- 2022年2月17日-评论:0

深度学习(DL)已经成为许多公司成功不可或缺的一部分。在半导体制造方面已经有许多论文和一些成功的报道，但只有22%的参与2021年eBeam Initiative luminaries调查的灯具认为DL是明年掩模制造的竞争优势，如图1所示。看着这张图表，这些名人认为……»阅读更多

发光器件看到掩模编写器的增长机会
通过简•威利斯- 2022年1月20日-意见:0

多波束掩模编写器(mbmw)是掩模编写器领域的新成员，因此增长预测并不令人惊讶。事实上，eBeam Initiative调查的90%的行业知名人士认为，未来三年MBMW的新购买量将会增加，如图1所示。根据这张图表，行业知名人士预测，新型掩模编写器的销量将在…»阅读更多

为什么EUV掩模更昂贵的观点
通过简•威利斯- 2021年12月20日-意见:0

每片使用EUV光刻的掩模更少，但每个EUV掩模更贵。鉴于此，7月份接受调查的大多数行业知名人士(74%)表示，EUV掩模将有助于2021年掩模收入的增长，如图1所示，这也就不足为奇了。在一个20分钟的视频中，专家小组分享了他们对EUV照片驱动因素的看法…»阅读更多

半导体掩模收入预计将在2021年增加
通过简•威利斯- 2021年11月18日-评论:0

7月份接受调查的大多数行业知名人士(72%)预测2021年掩模收入将增加，如图1所示。SEMI还预测，收入将从2020年的44亿美元增长到2021年的48亿美元，增长约9%。在一段12分钟的视频中，专家小组分享了他们对增长趋势背后的观点，大流行如何影响掩模行业，以及它与…»阅读更多

曲线设计对晶圆的好处
通过简•威利斯- 2021年10月21日-评论:0

在本系列博客中，我们一直关注曲线掩模的优点、推动因素和挑战。这就引出了D2S首席执行官藤村昭(Aki Fujimura)向杰出人士小组提出的一个明显的问题。如果前沿的掩模车间已经准备好通过曲线ILT、多波束掩模写入器和掩模设计链实现掩模上的曲线形状，那么我们是否可以拥有曲线目标形状……»阅读更多

优化曲线遮罩的VSB射击数
通过简•威利斯- 2021年8月19日-评论:0

使用可变形状电子束(VSB)写入器增加的掩模写入时间一直是反光刻技术(ILT)采用的障碍，而不仅仅局限于热点的使用。本视频博客的第二部分深入探讨了这一挑战。在这个五分钟的面板视频与行业名人，Ezequiel Russell描述了他的公司之间的合作研究…»阅读更多

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