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作者最新文章

2022年调查:灯具报告EUV对掩模趋势的积极影响
通过eBeam倡议- 2022年10月19日-评论:0

eBeam Initiatives从2022年7月开始的第11次年度灯具调查显示•EUV被视为对掩模收入的积极影响•EUV仍然是购买多波束掩模编码器的首要原因•今年多波束掩模编码器可用性问题较少的情况下，对制造曲线掩模的能力的信心仍然很高。»阅读更多

调查:2022年深度学习应用
通过eBeam倡议- 2022年3月16日-意见:0

eBeam成员在掩模到晶圆半导体制造领域的深度学习项目和产品的2022年成员名单。参与项目的公司包括:优势科技、阿斯麦、佳能、ea - leti、D2S、夫琅和费IPMS、日立高科技公司、imec、NuFlare科技、西门子工业软件公司;西门子EDA，意法半导体和TASMIT。点击这里查看su…»阅读更多

调查:2020年eBeam计划年度调查结果
通过eBeam倡议- 2021年7月21日-意见:0

D2S, Inc.的首席执行官Aki Fujimura于2021年4月在日本2021年的Photomask上展示了“eBeam Initiative在Photomask上的年度调查结果”。调查显示，COVID对口罩总收入的业务影响为净中性。到2021年，与covid - 19相关的商业预测为24%的正面对20%的负面。74%的人同意到2023年对EUV HVM进行光化检查，并获得更多结果。点击这里阅读更多。»阅读更多

深度学习在光掩模与晶圆半导体制造中的应用
通过eBeam倡议- 2021年3月17日-意见:0

eBeam Initiative成员的《调查:2021年深度学习应用列表》是目前用于掩模到晶圆半导体制造的深度学习工作的列表。例如ASML、D2S、Fraunhofer IPMS、日立高科技公司、imec、西门子工业软件公司、西门子EDA、意法半导体和TASMIT。由eBeam Initiative Membe发布…»阅读更多

调查:eBeam Initiative Luminaries(以前的感知)调查结果
通过eBeam倡议- 2020年11月18日-评论:0

2020年7月，对42家不同公司的77位行业名人进行的调查显示，2019冠状病毒病对2021年的业务影响为净中性，预测为24%的正面影响，预测为20%的负面影响。按此浏览调查结果。»阅读更多

2019-2020年口罩制造商调查结果
通过eBeam倡议- 2020年10月21日-评论:0

eBeam倡议2019-2020年掩模制造商调查的调查结果。•与去年相比，10家不同的公司报告了558,834个掩模•使用多波束掩模写入器编写的掩模增加了一倍以上•EUV掩模产量报告为91%•前沿节点的MPC使用量增加。»阅读更多

调查:2019年eBeam倡议感知调查结果
通过eBeam倡议- 2020年9月16日-评论:0

2020年eBeam倡议感知调查(现在称为杰出人物调查)的结果将于9月22日开始公布:与此同时，这是第8次年度感知调查- 2019年(7月)。来自42家不同公司的68位杰出人士参与了此次活动。一些亮点:预测到2020年深度学习的影响:76%的受访者表示它有点非常喜欢……»阅读更多

启用曲线掩码
通过eBeam倡议- 2020年6月18日-评论:0

本次演讲由D2S首席产品官Leo Pang介绍了一种独特的gpu加速曲线反向光刻技术(ILT)，并介绍了掩模-晶圆协同优化(MWCO)，该技术可以在12小时内在VSB或多波束机器上为193i编写曲线ILT。»阅读更多

调查:2019年eBeam Initiative掩模制造商调查结果
通过eBeam倡议- 2020年1月22日-意见:0

2019年，eBeam Initiative的多波束掩模调查首次报告•11家公司报告了599,536个掩模•2789个是EUV掩模•=7nm的平均掩模周转时间(TAT)为11天。按此查看调查结果。»阅读更多

EUV年度感知调查- 2019
通过eBeam倡议- 2019年9月18日-评论:0

第八次年度感知调查- 2019年(7月)，来自42家不同公司的68位名人对EUV的使用进行了调查。对EUV的信心仍然很高•73%的人预测到2020年底HVM•光化检查和薄膜前景乐观单击此处查看调查幻灯片。»阅读更多

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