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EUV年度感知调查- 2019


7月8日年度感知调查- 2019()68年在42个不同公司对使用的EUV名人。信心EUV居高不下•2020年底73%预测HVM•前景是积极的光化性检验和薄膜点击这里查看调查幻灯片。»阅读更多

2018年eBeam主动感知调查结果


EUV信心和多波束居高不下在第七届年度感知调查- 2018(7月)。EUV观念仍然是积极的。82%的受访者预测EUV HVM由2021年年底。只有1%的人预测EUV将永远不会发生。信心又高EUV光刻大批量制造和期望光化性面具检查EUV周围继续增长。在娘家姓的看法……»阅读更多

互补的电子束光刻技术


多波束董事长大卫·林看着互补电子束光刻(CEBL)和1 d设计和间距的影响。[youtube视频= nyvplBl4HA4]»阅读更多

在电子束光刻征服加热问题


由平Nakayamada的最好方法是处理的加热效应VSB面具写作?答案就在一定程度上利用GPU加速。看看这个视频的未来多波束面具写作。[youtube视频= Ij2l3hk6aFg]平Nakayamada NuFlare集团经理技术。»阅读更多

自定义打印多列检查


由托尼•罗在光学检测的挑战是什么?让我们仔细看看。点击下面的视频。(youtube视频= vzFSyHwD_AU)托尼·罗是新加坡Maglen的创始人。»阅读更多

2014年eBeam调查结果


全行业调查突显出行业思考EUV和面具写作高级节点。查看调查,请点击这里。»阅读更多

白板:大卫·林


多波束的大卫·林看着半导体光刻技术的改变,心血管疾病和腐蚀改善沥青的决议不是实现使用光学光刻技术,以及电子束直写如何完成这项工作。(youtube视频= 2 zcf-o7dxlu)»阅读更多

停止面具热点之前逃离面具店


由阿基》相同类型的基于物理问题,几十年来一直闹鬼光刻面具已经开始影响写作。指定的越来越小和复杂面具形状光学邻近校正(OPC)现在需要忠实的硅片光刻28 nm-and-below节点提出的增加掩盖热点。面具时热点世鹏科技电子…»阅读更多

面具问题之前


不仅仅是光刻的复杂。看看这个视频,戴日本印刷Hayashi直。[youtube视频= a6WmvhTdEv4]»阅读更多

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