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为什么面具空白是至关重要的


Geoff Akiki, Hoya集团的Hoya LSI总裁,接受了半导体工程的采访,谈论了光学和极紫外(EUV)光刻以及掩模空白。以下是讨论的节选。掩模毛坯是用作掩模的基片或衬底的组件。为什么它们很重要?秋木:如果你看看霍亚,我们的定位是……“ 阅读更多

为高na EUV做准备


半导体行业正在全速发展高na极紫外光刻技术,但提出这种下一代光刻系统和相关基础设施仍然是一项艰巨而昂贵的任务。ASML开发高数值孔径(高na) EUV光刻线已有一段时间了。基本上,高na EUV扫描仪是今天的EUV光刻系统的后续…“ 阅读更多

High-Na Euvl:光刻的下一个重大步骤


“到2025年,我们预计将在大批量生产环境中推出首款高na极紫外(EUV)光刻设备。这些下一代光刻系统将是推动摩尔定律向逻辑2nm技术方向发展的关键。在这篇文章中,imec的科学家和工程师参与准备这个主要工程…“ 阅读更多

制造比特:10月5日


EUV.lithography storage ring At the recent SPIE Photomask Technology + EUV Lithography conference, Japan’s High Energy Accelerator Research Organization (KEK) presented a paper on its latest efforts to develop a free-electron laser (FEL) storage ring source power unit for extreme ultraviolet (EUV) lithography. KEK has demonstrated a proof-of-concept EUV-FEL, which has been in R&D. EUV-FEL...“ 阅读更多

内部英特尔的雄心勃勃的路线图


英特尔高级副总裁兼技术开发总经理Ann Kelleher与半导体工程公司讨论了公司的新逻辑路线图,以及光刻、封装和工艺技术。以下是讨论的节选。英特尔最近公布了其新的逻辑路线图。除了英特尔3,英特尔还在开发英特尔20A。智慧……“ 阅读更多

用AFMs测量埃能级


竞争在原子力显微镜(AFM)市场中升温,其中几家供应商正在运送新的AFM系统,这些系统在包装,半导体和其他领域中解决了各种计量挑战。AFM,一直在雷达下方的一个小但不断增长的领域涉及一个独立的系统,它在埃埃级的结构上提供表面测量。(1 Angstrom = 0 ...“ 阅读更多

周回顾:生产,测试


3日,三星电子公开了“Galaxy Z Fold3 5G”和“Galaxy Z Flip3 5G”两款可折叠智能手机。该系统基于三星的5纳米应用处理器。其中一个系统是该公司最实惠的可折叠手机。Galaxy Z Fold3售价179.99美元,Galaxy Z Flip3售价999.99美元。三星还发布了两款智能手表——Galaxy Watch4和Galaxy Watch4……“ 阅读更多

用于多光谱PTYCHOGAL的EUV聚焦光束的剪裁空间熵


纳米线(Arcnl)和Vrije Universiteit Amsterdam的高级研究中心开发了一种新的衍射光学元件,铺设了更广泛使用的EUV显微镜。摘要“衍射光学器件可用于精确控制光学波线,即使在不可用的折射率如折射率的情况下。例如,c ...“ 阅读更多

制造比特:7月20日


干扰EUV光刻ESOL已开发出用于研发应用的独立干扰极端紫外(EUV)光刻工具。该系统称为Emile(EUV微干扰光刻设备),主要用于加速EUV光致抗蚀剂和相关晶片工艺的开发。该系统与ASML的EUV光刻扫描仪不同,这是......“ 阅读更多

EUV随机缺陷的发现与预测


一些供应商正在推出下一代检测系统和软件,该软件在极端紫外线(EUV)光刻中的过程中定位有问题的缺陷。每个缺陷检测技术涉及各种权衡。但必须在工厂中使用其中一个或多个。最终,这些所谓的随机诱导造成的euv引起的缺陷会影响perf ...“ 阅读更多

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