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白皮书

抑制随机交互提高EUV光刻

提议减少随机抵制和衬底之间的互动。

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作者Zhimin朱老,乔伊斯·洛斯,肖恩,志强的粉丝,和蒂姆·布鲁尔科学的荡妇,Inc .(美国)使用随机区厚度(坐)和动态随机区厚度(DSAT)评估随机交互。高提出了光脚接触,而不是传统的低底物反射率降低坐。附着力控制酸/冷却器加载提出减少随机抵制和衬底之间的互动。

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Zhimin朱老。,乔伊斯·洛斯,肖恩你们,志强的粉丝,蒂姆荡妇“抑制随机交互提高EUV光刻Proc。相比12055年,进步模式XXXIX材料和流程,120550 p(2022年5月25日);https://doi.org/10.1117/12.2614289



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