更快曲线ILT的掩模-晶圆协同优化。
D2S首席产品官Leo Pang介绍了一种独特的gpu加速曲线逆光刻技术(ILT)方法，并介绍了掩模-晶圆协同优化(MWCO)，该方法可以在VSB或多波束机器上在12小时内编写193i的曲线ILT。
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