公司在半导体上发光的生态系统关键制造技术的发展趋势。
每年,eBeam倡议进行调查,提供有价值的见解形成半导体行业的主要趋势。行业杰出人物代表,今年42岁来自半导体公司生态系统参加了2020年eBeam倡议名人的调查。89%的受访者调查预测,光掩模(面具)2020年的收入将保持不变或增加比2019年尽管COVID-19大流行。此外,80%的预测,COVID-19将对2021年面具收入中性或积极的影响,24%的人表示会积极的影响。EUV光刻和多波束面具写作出现在今年的调查的关键技术,是在早期的生产部署。在额外的结果,66%的人认为EUV将推动业务增长的面具,而几乎所有的受访者认为,市场多波束面具作家将增长在未来三年内,与EUV开车多波束作家购买。
eBeam倡议也完成了第六届面具制造商调查与反馈从10俘虏和商人面具制造商。面具制造商的调查结果中,面具与多波束作家写的数量增加了一倍多与去年的调查,而面具使用多波束作家编写时间报告(记录在今年的首次调查)大约是12小时。
在eBeam行动的第一个虚拟招待会有光掩模技术会议9月,一个专家小组有一个活跃的辩论调查结果背后的原因和见解。评论名人的调查结果在图1中,直Hayashi,研究员戴日本印刷(DNP),强调多波束面具EUV掩写作是至关重要的,因为它提供的优越的吞吐量为复杂,高密度的面具;然而,其潜力并不止于此,因为它提供了更高的分辨率,使nanoimprint模板和曲线面具。杰德Rankin,尊敬的高级成员的技术人员在GlobalFoundries,一致认为,最初的理由多波束面具作家基于EUV但强调,他们的灵活性,支持面具从40 nm 5 nm因素分成价值主张。当考虑请求支持sub-30-nm协助功能今天,艾米丽·加拉格尔,技术人员在Imec的主要成员,没有看到任何其他选择,但使用多波束面具作家。
图1:2020 eBeam倡议名人调查参与者被要求购买多波束面具作家等级的主要原因。
面板也被要求评论的平均面具写时间约12小时对多波束面具作家与约8小时variable-shaped eBeam (VSB)在《面具制造商调查和图2所示。专家组指出,一个复杂的面具可能针对多波束作家花费几天的时间来写一个VSB作家,在面具商店将是不切实际的。多波束面具VSB作家作家使写作的形状,几乎不能写。平均写时间多波束作家被超过平均VSB作家并不意味着多波束作家比VSB作家更慢。
图2:2020 eBeam倡议面具制造商调查结果加权平均面具写时间类型的面具的作家。
并没有太多的讨论多波束面具作家购买的趋势在未来三年内,在面板或调查的参与者之一。96%的名人的调查参与者回答说,购买新多波束面具作家将增加在未来三年。一个有趣的预测是32%的那些调查的回答说激光面具作家购买会增加在未来三年。专家小组被要求评论这个结果的后缘的复苏等应用程序节点物联网(物联网)。杰德兰金认为激光作家购买设备供应商的积极性创造新设备新价格点和成熟的技术领域持续的强劲需求。直Hayashi一致认为,新产品可能会填补留下的空白旧的和过时的激光作家需要更换。
回到所表达的整体积极性的调查参与者,专家组专家所总结的很好,说半导体是现代世界的支柱。COVID-19使半导体行业远程工作的核心。EUV光刻和多波束面具作家部署正在创造新的成长的机会(光掩模以及挑战)社区。两项调查的全部结果的重播eBeam主动接待视频包括小组讨论,请访问www.ebeam.org。
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