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多波束掩模编写器是游戏规则的改变者


eBeam Initiative在2022年第11次年度灯具调查中报告了对多光束掩模写入器的强劲采购预测,从而实现了EUV和曲线掩模的增长。在9月下旬与SPIE掩模技术会议同时举行的活动中,专家小组讨论了曲线掩模采用的剩余障碍。行业名人代表44家公司…»阅读更多

高na EUV使EUV掩模的未来更加复杂


eBeam Initiative在2022年进行的第11次年度灯具调查报告称,EUV推动了半导体掩模行业的增长,而专家小组在9月底与SPIE掩模技术会议同时举行的活动中引用了转向高na EUV的一些复杂性。代表来自整个半导体生态系统的44家公司的行业名人…»阅读更多

eBeam Initiative调查报告乐观的掩模市场前景


每年,eBeam Initiative都会进行调查,为塑造半导体行业的关键趋势提供有价值的见解。今年,代表整个半导体生态系统42家公司的行业名人参加了2020年eBeam Initiative灯具调查。调查中89%的受访者预测,2020年掩模(掩模)收入将保持…»阅读更多

多波束掩模书写终于成熟了


IMS纳米制造的首席执行官Elmar Platzgummer与Semiconductor Engineering坐下来讨论掩模和掩模写入趋势。IMS是英特尔的子公司,是用于掩模生产的多光束电子束系统的供应商。以下是那次谈话的节选。SE:多年来,掩模制造商一直在使用单束电子束工具在…»阅读更多

更多光刻/掩模挑战(第三部分)


《半导体工程》杂志与高级制版部门主管Gregory McIntyre坐下来讨论光刻和掩模技术[getentity id="22217" e_name="Imec"];[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"]高级研究员兼技术研究高级主管Harry Levinson;Regina Freed, [getentity id="…»阅读更多

更多光刻/掩模挑战(下)


《半导体工程》杂志与高级制版部门主管Gregory McIntyre坐下来讨论光刻和掩模技术[getentity id="22217" e_name="Imec"];[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"]高级研究员兼技术研究高级主管Harry Levinson;Regina Freed, [getentity id="…»阅读更多

Nanoimprint Litho怎么了?


纳米压印光刻技术(NIL)在市场新应用的爆炸中重新出现。佳能,EV集团,Nanonex, Suss和其他公司继续为一系列市场开发和运送NIL系统。NIL不同于传统的光刻,类似于一个冲压过程。最初,光刻系统根据预先定义的设计在模板上形成图案。然后,一个分离…»阅读更多

更多光刻/掩模挑战(上)


《半导体工程》杂志与高级制版部门主管Gregory McIntyre坐下来讨论光刻和掩模技术[getentity id="22217" e_name="Imec"];[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"]高级研究员兼技术研究高级主管Harry Levinson;Regina Freed, [getentity id="…»阅读更多

搜索EUV掩膜缺陷


芯片制造商希望在7nm和/或5nm处插入极紫外(EUV)光刻,但在这项技术投入生产之前,还需要解决几个挑战。一个越来越令人担忧的遗留问题是如何找到[gettech id="31045" comment="EUV"]掩模缺陷。当然,这并不是唯一的问题。该行业继续致力于电源并进行抵抗。部……»阅读更多

挑战Mount为掩模


半导体工程与dainippon Printing (DNP)研究员Naoya Hayashi坐下来讨论掩模技术;[getentity id="22817" e_name="Applied Materials"]掩模和TSV蚀刻事业部技术负责人兼首席技术官吴班丘;Weston Sousa,十字线产品部总经理[getentity id="22876" common…»阅读更多

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