标签:多波束

2022年的调查:名人报告积极EUV对面具的影响趋势
通过eBeam倡议- 10月19日,2022 -评论:0

eBeam行动从2022年7月11日年度杰出人物调查显示•EUV视为一个积极的影响•EUV掩模收入仍采购的首要原因多波束面具作家•信心仍然很高能力曲线面具可用性的多波束面具作家少的问题今年点击这里阅读调查结果。»阅读更多

调查:eBeam倡议名人(以前的看法)调查结果
通过eBeam倡议——11月18日,2020 -评论:0

调查了77名业界名人在42个不同的公司在2020年7月净说中性COVID-19业务影响,到2021年,积极vs 20% - 24%的预测。点击这里查看调查结果。»阅读更多

2019 - 2020面具制造商调查结果
通过eBeam倡议10月- 21,2020 -评论:0

2019 - 2020年的调查结果面具制造商的调查eBeam倡议。•多波束和EUV趋势变得可见•558834面具由10个不同的公司比去年•面具用多波束面具作家翻了一倍多•EUV掩模产量报告•MPC使用量增加91%前缘节点点击这里查看演示。»阅读更多

乐观的市场前景光掩模eBeam倡议调查报告
通过简•威利斯- 05年10月,2020 -评论:0

每年,eBeam倡议进行调查,提供有价值的见解形成半导体行业的主要趋势。行业杰出人物代表,今年42岁来自半导体公司生态系统参加了2020年eBeam倡议名人的调查。89%的受访者调查预测,光掩模(面具)的收入在2020年将保持…»阅读更多

制造业:2月5日
通过马克LaPedus2019年2月- 05(-评论:1

多波束平落砂多波束电子束光刻应用程序继续进行落砂市场由于技术障碍和其他问题。ASML上周宣布,它已获得的知识产权(IP)资产Mapper光刻,荷兰的多波束电子束光刻工具供应商去年年底陷入破产的应用程序。因为它t…»阅读更多

2018年eBeam主动感知调查结果
通过eBeam倡议12月- 14,2018 -评论:0

EUV信心和多波束居高不下在第七届年度感知调查- 2018(7月)。EUV观念仍然是积极的。82%的受访者预测EUV HVM由2021年年底。只有1%的人预测EUV将永远不会发生。信心又高EUV光刻大批量制造和期望光化性面具检查EUV周围继续增长。在娘家姓的看法……»阅读更多

调查:EUV乐观增长
通过马克LaPedus- 9月17日,2018 -评论:2

极端紫外线置信水平仍然很高(EUV)光刻,虽然插入的时间仍然是一个移动的目标,根据一项新调查发布的eBeam倡议。与此同时,整个光掩模行业前景乐观,据调查。缺点是,然而,似乎没有进展的改善面具turnaro……»阅读更多

更多的光刻/面具挑战(第2部分)
通过马克LaPedus- 4月17日,2018 -评论:3

半导体工程坐下来讨论光刻和格里高利·麦金太尔光掩模技术,先进模式部门主任(getentity id = " 22217 " e_name =“Imec”);哈里·莱文森高级研究员和高级技术研究主管[getentity id = " 22819 "评论=“GlobalFoundries”);董事总经理Regina释放模式技术[getentity id = "……»阅读更多

下一代面具作家比赛开始了
通过马克LaPedus- 10月19日,2017 -评论:5

竞争是面具加热作家设备业务两个vendors-Intel / IMS和NuFlare-vie在新的和新兴的多波束工具领域的地位。去年,英特尔惊讶这个行业通过收购IMS纳米加工,多波束电子束面具作家设备供应商。同样在去年,IMS,英特尔的一部分,现在开始航运世界第一多波束面具作家f……»阅读更多

调查:乐观的EUV生长
通过马克LaPedus9月- 11,2017 -评论:1

乐观增长的极端紫外线(EUV)光刻技术在市场上,一双新公布的调查eBeam倡议,也透露了一些新的和令人惊讶的数据掩盖书写工具和其他光掩模技术。在一个调查的[getentity id = " 22818 " e_name =“eBeam倡议”],比e受访者透露他们更乐观……»阅读更多

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