光掩模业务扩张,尽管几个挑战。
极端紫外线置信水平仍然很高(EUV)光刻,虽然插入的时间仍然是一个移动的目标,根据一项新调查发布的eBeam倡议。
与此同时,整个光掩模行业前景乐观,据调查。缺点是,然而,似乎没有进展的改善面具在前沿周转时间节点,根据调查。
一段时间,但面具行业经历了平坦的增长。最近,尽管如此,这个行业也出现了增长落后和领先的边缘。光掩模市场在2018年的调查中,受访者预计将增加复合年增长率(CAGR) 2018年和2020年之间的4.1%或更多。
“面具行业终于看到一个上升,“说阿基》d2的首席执行官。d2也是管理公司eBeam倡议的支持。eBeam倡议由许多成员组成。在最新的声明中,东京电子有限公司(TEL)已经加入了集团。
数据EUV、光掩模前景和其他主题来自两个新公布的调查eBeam倡议。一项调查集团被称为“认知调查。“行业杰出人物代表近40家公司来自半导体生态系统参与了认知调查。
eBeam倡议也完成了第四届“面具制造商的调查与反馈从10俘虏和商人光掩模制造商。
根据调查,行业仍持乐观态度EUV。在调查中,82%的受访者预测EUV光刻技术将用于大批量生产,到2021年,只有1%的受访者预测这将永远不会发生。
插入的时机尚不明朗。在2017年的调查中,16%的受访者预测EUV将用于大批量生产到2018年。在2018年的调查,4%的受访者认为EUV将在2018年之前被用于大规模生产。
在2018年的调查中,31%的受访者认为EUV将在2019年被用于大规模生产。相比之下,33%在去年的调查。
无论如何,这个行业在很大程度上加大EUV。“ASML仍预计船20 EUV系统2018年;它运送7 1 h,离开13 2 h,”韦斯顿Twigg说KeyBanc资本市场分析师在最近的一份研究报告中表示。“ASML重申计划船30 EUV系统在2019年。公司还强调努力加速生产力改进,应该使晶片产量每小时超过155片,同时改善工具的可用性;这些改进可能会在2019年。”
业界希望利用EUV流程步骤的减少7 nm节点。从理论上讲,这应该是降低制造成本。
不过,需要时间把EUV进入大规模生产。例如,自今年早些时候以来,台积电已经航运7海里使用传统193纳米光刻技术。今年7月,台积电taped-out首次7纳米设备使用一种EUV光刻扫描仪。台积电计划EUV在2019年上半年的大规模生产。“这是2019年第二季度,世界上第一个EUV铸造生产到那时,“c·c·魏说,首席执行官和台积电的副主席,在最近的一次电话会议。
与此同时,也有一些积极趋势面具。“在今年的调查中,面具的总数大幅增加,EUV掩的开始加速,和持续增长的因素影响面具站在前沿的周转时间节点我重要的趋势,“d2”》说。
在调查中,十个参与者报告说他们交付27%的面具在2018年和2017年,尽管总体面具收益率仍稳定在近94%。这是面具的总数。
EUV掩交付的数量也增加了一倍多,从1041年的2017到2185年的2018人,据调查。EUV掩模的收益率提高至72%,根据2018年的调查。在2017年的调查,EUV面具收益率较低为64.3%。
另一个问题是面具周转时间。似乎没有进展前沿的面具周转时间节点,根据调查。这里有一些原因:
*今天的平均面具写时间的单梁面具作家正在增加。事实上,写时间增加了超过20%,和去年的调查相比,从6.8小时到近8.3小时。
*面具在高级节点数据准备时间居高不下。
*面具平均每层增加数据量与去年相比。
帮助周转时间,该行业正开始使用多波束面具作家。IMS,已经发货一个多波束面具的作家。
认知需要多波束面具写作依然强劲,有83%的受访者表示EUV采用需要技术,调查显示。约82%的受访者表示,多波束将用于大批量生产到2020年底。“绝大的信心表现在多波束的看法调查面具写作行业是一个积极的迹象,与面具多波束帮助周转时间问题,特别是对于写作与较慢的抗拒和复杂的面具的形状,“d2”》说。
》将eBeam倡议的结果的面具制造商的调查在本周的有光掩模技术研讨会在蒙特雷,加州。
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即使是乐观主义者,EUV时机是不确定的。
十年和6节点,插入时间仍在怀疑。更不用说吞吐量,正常运行时间,抵制,薄膜等。