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标签:光掩模

EUV掩模的粒子去除
通过技术文件链接- 2022年8月31日-评论:0

这篇题为“基于afm的Hamaker常数测定与盲尖重建”的技术论文刚刚由ASML，亚琛工业大学和AMO GmbH的研究人员发表。该研究报告了一种真空afm去除EUV掩模颗粒的方法。在这里找到技术文件。2022年8月出版。Ku, B.， van de Wetering, F.， Bolten, J.， Stel, B.， van de K…»阅读更多

今天可以制造曲线掩模
通过简•威利斯- 2022年4月21日-意见:0

多波束掩模写入器(mbmw)和gpu加速曲线ILT使今天的曲线掩模成为可能。尽管工艺窗口的改进带来了好处，但曲线掩模的采用是缓慢的。eBeam Initiative在2021年调查的行业知名人士将掩模检测和基础设施列为采用的最大障碍，如图1所示。然而，只有4%的人认为……»阅读更多

掩模与计量技术趋势
通过鲍勃·史密斯- 2022年4月21日-意见:0

位于法国格勒诺布尔的Aselta Nanographics公司生产基于电子束技术的IC制造晶圆和掩模图形软件，以及用于扫描电子显微镜的先进计量解决方案，最近成为ESD联盟成员。除了令人印象深刻的证书，Aselta是CEA-Leti的衍生产品，电子和信息技术研究机构…»阅读更多

EUV掩模检测源性能指标
通过技术文件链接- 2022年4月18日-意见:0

摘要“为获得光化图案掩模检测系统的光源亮度、功率、寿命和洁净度的规格，推导了规则。我们着重于物理过程和技术方面的要求，放射源的十字线检查。我们讨论了扫描仪在放大倍率、系统性能、性能和性能等方面的异同。»阅读更多

利用工艺建模增强自对准四重模式化过程中的器件均匀性
通过蒂莫西·杨- 2021年11月18日-评论:0

尽管人们对EUV光刻越来越感兴趣，但自对准四重图案(SAQP)在图案一致性、简单性和成本方面仍然具有许多技术优势。这尤其适用于非常简单和周期性的模式，如线和空间模式或孔阵列。SAQP最大的挑战是固有的不对称掩模形状。这种不对称会产生结构性的…»阅读更多

半导体掩模收入预计将在2021年增加
通过简•威利斯- 2021年11月18日-评论:0

7月份接受调查的大多数行业知名人士(72%)预测2021年掩模收入将增加，如图1所示。SEMI还预测，收入将从2020年的44亿美元增长到2021年的48亿美元，增长约9%。在一段12分钟的视频中，专家小组分享了他们对增长趋势背后的观点，大流行如何影响掩模行业，以及它与…»阅读更多

为什么掩码空格很重要
通过马克LaPedus- 2021年10月21日-评论

Hoya Group的Hoya LSI总裁Geoff Akiki与Semiconductor Engineering公司坐下来讨论光学和极紫外(EUV)光刻以及掩模坯。以下是那次讨论的节选。掩模坯料是作为掩模的基板或衬底的组件。为什么它们很重要?Akiki:如果你看看Hoya，我们一直被定位为……»阅读更多

逆光刻技术:30年从概念到实用，全芯片实现
通过技术文件链接- 2021年10月1日-评论:0

发表在《微/纳米图案、材料和计量学》杂志上，2021年8月31日。在这里阅读完整的技术论文(开放获取)。摘要在光刻技术中，为了获得最佳的晶圆打印效果，需要对光学接近度和工艺偏差/效应进行校正。纠正这些影响的努力从一个简单的偏差开始，在线端增加一个锤头，以防止线端缩短。T…»阅读更多

曲线形状对掩模的好处
通过简•威利斯- 2021年3月15日-意见:0

你有四分钟时间来听听为什么像美光科技这样的公司认为光罩上的曲线形状是一种优势吗?在一段短视频中，美光科技掩模技术高级总监Ezequiel Russell展示了曲线形状如何增加高级内存的进程窗口，如图1所示。这段视频是与行业专家在…»阅读更多

超越划线限制的设计
通过布莱恩•贝利- 2020年11月12日-评论:0

设计在规模和复杂性上不断增长，但今天它们面临着物理和经济方面的挑战。这些挑战正在导致集成趋势的逆转，而集成趋势在过去几十年提供了大部分的性能和功率增益。该行业远没有放弃，正在探索新的方法，使设计能够超越十字线的尺寸，大约是8…»阅读更多

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