标签:多波束电子束

多波束面具作家是一个改变游戏规则
通过简•威利斯12月- 22,2022 -评论:0

eBeam倡议的第11届名人调查在2022年公布了强劲采购预测多波束面具作家,使两种EUV和曲线光掩模的增长。一个专家小组讨论剩余曲线光掩模采用壁垒在事件与其他方法相比光掩模技术会议在9月下旬。行业杰出人物代表44伴随矩阵……»阅读更多

电子束IC缺陷检测生长的作用
通过凯伦·海曼7月- 12,2022 -评论:1

永久的迈向更小的特性,再加上对芯片寿命更长更好的可靠性不断增长的需求,已从一个相对模糊的高架检查但必要的技术到工厂和包装最重要的工具之一。多年来,检查被陷害了电子束之间的战斗和光学显微镜。不过,越来越多的其他类型的高级警官……»阅读更多

面具和计量技术的发展趋势
通过鲍勃·史密斯- 4月21日,2022 -评论:0

Aselta Nanographics的法国格勒诺布尔,生产软件的晶片和面具模式基于电子束技术集成电路制造、扫描电子显微镜以及先进的计量解决方案,最近成为了ESD联盟成员。增加其令人印象深刻的凭据,Aselta CEA-Leti的副产品,是电子与信息技术研究所研究……»阅读更多

2019 - 2020面具制造商调查结果
通过eBeam倡议10月- 21,2020 -评论:0

2019 - 2020年的调查结果面具制造商的调查eBeam倡议。•多波束和EUV趋势变得可见•558834面具由10个不同的公司比去年•面具用多波束面具作家翻了一倍多•EUV掩模产量报告•MPC使用量增加91%前缘节点点击这里查看演示。»阅读更多

乐观的市场前景光掩模eBeam倡议调查报告
通过简•威利斯- 05年10月,2020 -评论:0

每年,eBeam倡议进行调查,提供有价值的见解形成半导体行业的主要趋势。行业杰出人物代表,今年42岁来自半导体公司生态系统参加了2020年eBeam倡议名人的调查。89%的受访者调查预测,光掩模(面具)的收入在2020年将保持…»阅读更多

与电子束检验发现缺陷
通过马克LaPedus8月- 20,2020 -评论:0

几家公司正在开发或航运下一代电子束检测系统,以减少缺陷先进逻辑和内存芯片。供应商正在与这些新电子束检验系统的两种方法。一个是更传统的方法,它使用一个单光束电子束系统。与此同时,其他正在开发更新的多波束技术。这两种方法有寡糖……»阅读更多

挑战成长寻找芯片缺陷
通过马克LaPedus- 9月19日,2019 -评论:5

几个设备制造商正在开发或增加一种新的晶片检查系统地址找到缺陷的挑战先进的芯片。在每一个节点,芯片的特征尺寸越来越小,而缺陷更难找到。在芯片缺陷是不必要的偏差,影响产量和性能。新检验系统承诺解决c…»阅读更多

多波束面具写最后是年龄
通过马克LaPedus11月- 15,2018 -评论:0

奈米制造的首席执行官埃尔Platzgummer IMS,坐下来与半导体工程讨论光掩模和面具写作趋势。IMS,英特尔公司的子公司,是光掩模的多波束电子束系统的供应商生产。以下是摘录的谈话。SE:多年来,光掩模制造商利用单光束电子束工具模式或写功能……»阅读更多

面具,光刻模型和选择
通过简•威利斯——4月19日,2018 -评论:0

每2月一个出色的主持群eBeam名人聚集事件eBeam倡议在学报先进光刻技术会议。这是我们十年度午餐站立的空间只有今年再次参加。很荣幸了解其中的一些很有才华的人。我们开始生产视频社区在五年前分享更多的storie……»阅读更多

进化的EUV
通过埃德·斯珀林4月- 20,2017 -评论:0

EUV系统开始船大型铸造厂体积,为半导体行业最大的跳跃技术之一从未目睹过的。ASML已成为唯一的供应商在这个市场,但它已经开发EUV整个生态系统。它已经被ASML数十亿美元的投资,加上巨大的资金注入由英特尔和台积电来讲……»阅读更多

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