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面具,光刻模型和选择

视频和他们背后的人的集合。

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每2月一个出色的主持群eBeam名人聚集事件eBeam倡议在学报先进光刻技术会议。这是我们十th年度午餐站立的空间只有今年再次参加。很荣幸了解其中的一些很有才华的人。我们开始生产视频社区在五年前分享更多的故事。所以让我告诉你更多关于四个“eBeamers”和他们的想法,当我们用什么做相应的视频。


上图从左到右:谢尔盖•Babin Hiroshi松本,安琪》

阿基》在2009年创立了eBeam倡议。在过去的十年里,阿基已成为闻名的面具和光刻技术领域等有关eBeam创新解决方案的实现重叠在面具数据准备(MDP)。目前,d2是专注于提供最准确的面具模型对EUV和多波束面具写作,利用GPU加速他们的解决方案。阿基谈到他发现有趣和最高的有2018视频,这也在日本狮子座彭日成的帮助下,d2的首席产品官中国

在面具的一个主要的进步现在发生的下一代的面具作家称为多波束。eBeam面具写作是NuFlare技术的市场领导者。NuFlare eBeam倡议的一个活跃的成员。2016年,他们用年度eBeam倡议午餐有宣布他们多波束机器,喜忧参半- 1000。在一个更新视频他从两年前引进的技术,Hiroshi松本谈到进一步创新喜忧参半- 1000包括内联像素级剂量校正(PLDC)使用GPU加速。

准确的模型是半导体制造的所有阶段的关键。谢尔盖Babin是众所周知的在行业发展的软件模型和优化半导体加工设备。2003年他创立了正横技术专注于解决方案在这个空间。正横技术属于eBeam倡议和Sergey来到今年的年度eBeam倡议午餐有更新我们的未来CD-SEM。他的团队一直从事一个新的SEM建模方法与结果的准确性和自动化和可预测性不取决于CD-SEM食谱。谢尔盖给出了一个全面的概述视频


上图从左到右:简·威利斯和劳伦的痛苦

无掩模光刻技术多年来一直是话题现在Leti建立本身作为一个支持者和一个中心的专业知识。专家之一是“eBeamer”劳伦疼痛使Leti eBeam倡议的创始成员,很高兴让他介绍Leti和格勒诺布尔。Leti庆祝50年研究所最近在替代光刻和继续培养创新方法。今年第一次,他们举行了一场研讨会期间有致力于替代光刻。在这个视频Laurent突显出研讨会的主题,他们支持和关键程序如何接触Leti如果你有兴趣参与。



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