标签:面具

景观变化的面具
通过简•威利斯——5月19日,2022 -评论:0

半导体光掩模发生了一些主要的技术在过去的几年里变化相对较小的更改之后很多年了。多波束面具等新技术作家和极端的紫外线(EUV)光刻技术重大突破时坡道进入量产阶段。一种新趋势与这些技术是使用光掩模的曲线特性。阿基…»阅读更多

调查:2020 eBeam计划年度调查的结果
通过eBeam倡议- 7月21日,2021 -评论:0

阿基》的首席执行官d2,公司提出了“eBeam倡议的年度调查的结果在光掩模”日本光掩模2021在2021年4月。调查说COVID面具总收入净中立的业务影响。到2021年,24%正vs 20%负COVID-related业务预测。74%同意光化性检查EUV HVM到2023年,和更多的结果。点击这里阅读更多。»阅读更多

面具/成熟的光刻技术问题节点
通过马克LaPedus10月- 22,2020 -评论:0

半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模问题,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;哈里·莱文森HJL光刻技术负责人;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。下面摘录的对话……»阅读更多

2019 - 2020面具制造商调查结果
通过eBeam倡议10月- 21,2020 -评论:0

2019 - 2020年的调查结果面具制造商的调查eBeam倡议。•多波束和EUV趋势变得可见•558834面具由10个不同的公司比去年•面具用多波束面具作家翻了一倍多•EUV掩模产量报告•MPC使用量增加91%前缘节点点击这里查看演示。»阅读更多

调查:2019 eBeam倡议面具制造商的调查结果
通过eBeam倡议1月- 22,2020 -评论:0

2019年,eBeam倡议的多波束面罩调查报告首次•599536年报告的11家公司2789年•EUV掩•面具平均周转时间(乙)= 7海里是11天。点击这里查看调查结果。»阅读更多

面具,光刻模型和选择
通过简•威利斯——4月19日,2018 -评论:0

每2月一个出色的主持群eBeam名人聚集事件eBeam倡议在学报先进光刻技术会议。这是我们十年度午餐站立的空间只有今年再次参加。很荣幸了解其中的一些很有才华的人。我们开始生产视频社区在五年前分享更多的storie……»阅读更多

gpu加速经验面具模型的结束意味着什么?
通过佩尔曼瑞安10月- 20,2016 -评论:0

面具萎缩特征尺寸和增加间接影响驾驶的采用基于仿真的掩模处理。实证模型被使用最广泛的日期,因为他们是更快的模拟。今天,gpu加速使快速使用物理模型模拟。gpu加速的能力,使物理模型实用解决方案意味着经验的终结……»阅读更多

为什么DSA 7海里和低于成本效益吗
通过拥有一系列马- 7月30日,2015 -评论:0

即将到来的7海里流程节点提出了严峻的挑战对印刷适性和成本。7海里和下面,多模式是必需的,使生产过程更加昂贵,要求更多的面具。控制成本,任何可供选择的技术提供等价收益率应该探索模式较少的步骤。一个很有前景的选择是使用定向自组装(…»阅读更多

挑战模式和面具
通过马克LaPedus- 06年4月,2015 -评论:0

半导体工程坐下来讨论[getkc id = " 80 "评论= "光刻"]和Uday Mitra光掩模的趋势,副总裁兼首席技术官的蚀刻业务单元(getentity id = " 22817 " e_name =“应用材料公司”);高级经理和副主任Pawitter Mangat EUV光刻在[getentity id = " 22819 "评论= " GlobalFoundries "];阿基》首席execu……»阅读更多

挑战模式和面具
通过马克LaPedus3月- 30,2015 -评论:0

半导体工程坐下来讨论光刻、光掩模与Uday Mitra趋势,副总裁兼首席技术官的蚀刻业务单元(getentity id = " 22817 " e_name =“应用材料公司”);高级经理和副主任Pawitter Mangat EUV光刻在[getentity id = " 22819 "评论= " GlobalFoundries "];阿基》首席执行官[getentity id = " 228…»阅读更多

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