标签:NuFlare技术

深度学习(DL)应用在光掩模半导体晶圆制造
通过eBeam倡议3月- 15,2023 -评论:0

eBeam倡议发表的成员公司(2023年2月),这个列表所使用的人工智能(AI)系统的成员公司在半导体制造产品显示了进步。新系统使用人工智能的例子包括:图像处理和参数调优掩模光刻工具计量系统中b样条控制点生成工具sem……»阅读更多

多波束面具作家是一个改变游戏规则
通过简•威利斯12月- 22,2022 -评论:0

eBeam倡议的第11届名人调查在2022年公布了强劲采购预测多波束面具作家,使两种EUV和曲线光掩模的增长。一个专家小组讨论剩余曲线光掩模采用壁垒在事件与其他方法相比光掩模技术会议在9月下旬。行业杰出人物代表44伴随矩阵……»阅读更多

High-NA EUV复杂化EUV光掩模的未来
通过简•威利斯11月17日,2022 -评论:0

eBeam计划2022年第11届名人调查报道EUV推动半导体光掩模行业的增长,一个专家小组引用了一些并发症在搬到High-NA EUV事件与其他方法相比光掩模技术会议在9月下旬。从半导体行业杰出人物代表44公司生态系统partic……»阅读更多

光掩模短缺增长成熟的节点
通过马克LaPedus- 4月21日,2022 -评论:2

成熟的节点对芯片需求激增,加上老化photomask-making设备在这些几何图形,引起重大关注整个供应链。这些问题最近才开始浮出水面,但他们为光掩模尤其令人担忧,这对芯片生产是至关重要的。为光掩模制造能力尤其紧28 nm及以上,推高了…»阅读更多

调查:2022深度学习应用
通过eBeam倡议3月- 16,2022 -评论:0

2022个成员的深度学习项目和产品列表,eBeam成员正在晶圆半导体制造的光掩模。参与公司包括效果显著、佳能、荷兰阿斯麦公司CEA-LETI, d2,弗劳恩霍夫ipm,日立高科技公司,imec, NuFlare技术,西门子工业软件有限公司;西门子EDA,意法半导体,TASMIT。点击这里查看苏……»阅读更多

优化VSB射杀数曲线面具
通过简•威利斯8月19日,2021 -评论:0

增加光掩模写时间使用variable-shape电子束(VSB)作家一直是逆光刻技术的采用障碍(ILT)热点超越有限的使用情况。这个视频博客的第二部分看着挑战深度。在这五分钟的小组视频行业名人,Ezequiel罗素形容他的公司之间的协作研究……»阅读更多

面具规则检查曲线光掩模呢?
通过简•威利斯——7月22日,2021 -评论:0

整个光掩模设计链需要考虑采用曲线光掩模。广泛观察生态系统影响是解决之前的视频,但更深入的观察光掩模的设计链提出下一个问题——MRC会越来越需要更多时间吗?阿基》的d2点火打开面板视频行业名人通过提供优惠……»阅读更多

开发一种新的曲线数据格式
通过简•威利斯- 6月17日,2021 -评论:0

曲线生成的数据大小面具会影响周转时间(乙)光掩模生产,因此采用曲线的面具。在以前的博客曲线面具,我们小组名人视频讨论讨论一些可能的解决方案。在这第七个视频,专家组考察一些想法来定义一个新的曲线数据格式,以减少文件大小。阿基》……»阅读更多

采用曲线面具将如何影响周转时间?
通过简•威利斯- 01年6月,2021 -评论:0

周转时间(乙)光掩模制造商一直在过程越来越小的节点,增加eBeam倡议面具制造商的调查报告,所以重要的是要看的影响曲线面具答。在这第六部分我们的博客系列曲线面具,阿基》d2探索这个问题的业内名人在视频面板…»阅读更多

需求,300 mm设备交货期飙升
通过马克LaPedus——5月20日,2021 -评论:0

各种芯片的需求激增导致选择短缺和延长交货期对于许多类型的300毫米半导体设备、光掩模工具,晶片等产品。过去几年中,200 mm设备已经在市场上供不应求,但现在问题出现在300毫米的供应链,。传统上,交货期已经三到六山……»阅读更多

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