新工具不仅需要检查错误，还需要修复错误。
在采用曲线掩模时，需要考虑整个掩模设计链。对生态系统影响的广泛看法已在之前的视频但更深入地研究掩模的设计链就会提出下一个问题——MRC是否会更难，需要更多时间?D2S的藤村昭(Aki Fujimura)打开了9分钟的面板视频根据Ryan Pearman在2019年日本Photomask上发表的一篇论文，提供了曲线MRC如何工作的概念解释，如图1所示。
图1:曲线掩码规则检查(MRC)的概念解释。
来自美光科技的Ezequiel Russell认为曲线掩模增加了MRC的复杂性，但巧妙的解决方案正在讨论中。他接着说，新工具不仅需要检查错误，还需要修复错误。快速检查和修复算法将是关键，以确保曲线掩模提供的新功能在处理时间方面的成本尽可能低。来自TSMC的Danping Peng具有应用数学背景，基于此，他认为有机会简化曲线掩模的MRC。他在视频中提供了一些概念性的例子，并鼓励电子设计自动化(EDA)供应商追求一种简化的方法。NuFlare Technology的Noriaki Nakayamada通过讨论他们如何在mbf2.0中选择数据格式来结束视频以前的博客可以使曲线MRC更容易。他呼吁整个行业齐心协力，共同寻找解决方案。
您可以在SPIE先进光刻技术上观看eBeam倡议虚拟活动的完整90分钟小组讨论在这里。
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