为什么多波束面具写时间变成常数无论多么复杂的面具的形状。
多波束面具写作被确认为消除障碍的方法之一在过去制造曲线形状的面具分期付款这个博客。我们的博客系列继续教育视频解释的多波束作家为什么以及如何减少写时间曲线形状的面具,发生在一个eBeam倡议小组讨论与业内专家在2021年学报先进光刻会议。在这两分钟视频摘录虚拟事件如图1所示,平Nakayamada,掩模光刻技术的高级技术专家在NuFlare技术工程部,解释了多波束面具写时间变成常数无论多么复杂的面具的形状,包括曲线的形状。
图1:讨论多波束面具作家在2021年eBeam倡议小组在学报。
更多的吞吐量EUV掩被确认为采购多波束作家的第一推动力eBeam主动调查工业杰出人物在2020年7月进行(图2),曲线进行了193我面具原因中排名第三,紧随其后的是曲线ILT EUV掩在第四位。在一个单独的调查问题,绝大多数的受访者认为曲线形状将使用面具,到2023年,至少部分。
图2:eBeam计划2020年的调查排名多波束面具作家购买的理由。
在这个博客在接下来的几个月里,我们将听到专家在台积电,微米技术和d2除了NuFlare技术是我们探索的问题准备剩余的面具的生态系统,业界正致力于解决方案如何曲线等数据格式,以及是否EUV掩将使用曲线形状。我们最后的博客看看可能会改变不仅制造半导体芯片的设计使用曲线形状。如果你不能等待,你可以看到完整的90分钟的小组活动在这里。
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