标签:光电池的

曲线光掩模可以今天
通过简•威利斯- 4月21日,2022 -评论:0

多波束面具作家(MBMWs)和GPU-accelerated曲线ILT今天使曲线光掩模制作。尽管改进过程的好处窗口,采用曲线光掩模是缓慢的。行业名人eBeam倡议在2021年调查的排名光掩模检验和基础设施障碍采用顶部,如图1所示。然而只有4%的人说b…»阅读更多

光掩模短缺增长成熟的节点
通过马克LaPedus- 4月21日,2022 -评论:2

成熟的节点对芯片需求激增,加上老化photomask-making设备在这些几何图形,引起重大关注整个供应链。这些问题最近才开始浮出水面,但他们为光掩模尤其令人担忧,这对芯片生产是至关重要的。为光掩模制造能力尤其紧28 nm及以上,推高了…»阅读更多

周评:制造、测试
通过马克LaPedus- 3月18日,2022 -评论:0

芯片制造商,oem厂商英特尔继续建造更多的晶圆厂。首先,该公司宣布在亚利桑那州晶圆厂然后俄亥俄州。现在,英特尔计划投资到€800亿年欧盟未来十年。作为努力的一部分,英特尔计划建造两个半导体晶圆厂在马格德堡,德国。工程预计将于2023年上半年和生产计划上线2…»阅读更多

正确的项目是光掩模采用深度学习的关键
通过简•威利斯- 2月17日,2022 -评论:0

深度学习(DL)已经成为许多公司的成功不可或缺的一部分。有很多论文和一些报道的成功在半导体制造,然而只有22%的名人参加2021年eBeam倡议名人调查看到DL作为光掩模的竞争优势使到明年,如图1所示。看图表,名人相信…»阅读更多

名人见光掩模作家的成长机会
通过简•威利斯——2022年1月20日——评论:0

多波束面具作家(MBMWs)光掩模的新人作家,所以增长预测并不令人惊讶。事实上,90%的受访业界名人eBeam倡议认为购买新MBMW将增加在未来三年内,如图1所示。看着那图,预测新的光掩模的销售业界名人作家增加跨…»阅读更多

观点为什么EUV光掩模更昂贵
通过简•威利斯12月- 20,2021 -评论:0

有更少的光掩模/晶片使用EUV光刻,但每个EUV光掩模是更加昂贵。鉴于此,这不是一个意外,大多数(74%)的受访业内名人说7月EUV光掩模将有助于增加光掩模收入2021,如图1所示。在20分钟的视频中,一个专家小组分享他们的观点是什么驱使EUV photom……»阅读更多

半导体光掩模收入预计在2021年增加
通过简•威利斯——11月18日,2021 -评论:0

多数(72%)的受访业内名人在2021年7月预测光掩模收入的增加,如图1所示。半还预测收入约9%从2020年的4.4美元增加到2021年的4.8美元。在12分钟的视频中,一个专家小组分享他们的观点背后的增长趋势,如何大流行已经影响了光掩模行业,以及它如何比较……»阅读更多

周评:制造、测试
通过马克LaPedus11月- 12,2021 -评论:0

芯片制造商AMD推出其新的MI200系列产品,第一个exascale-class GPU加速器。使用扇出桥包装技术,MI200系列是专为高性能计算(HPC)和人工智能(AI)的应用程序。MI200系列加速器功能multi-die GPU架构HBM2e 128 gb的内存。通常,HBM2e内存堆栈…»阅读更多

人工智能和High-NA EUV 3/2/1nm
通过马克LaPedus12月- 16,2020 -评论:1

半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模问题,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;哈里·莱文森HJL光刻技术负责人;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。以下是摘录的谈话。竞争……»阅读更多

挑战持续EUV
通过马克LaPedus11月- 11 2020 -评论:2

半导体工程坐下来讨论光刻和布莱恩Kasprowicz光掩模问题,技术总监和策略和一个杰出的成员在光电池的技术人员;哈里·莱文森HJL光刻技术负责人;资深技术专家平Nakayamada NuFlare;和阿基》d2的首席执行官。以下是摘录的谈话。竞争……»阅读更多

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