薄膜、检验和周转时间对EUV掩模成本有影响。
每片使用EUV光刻的掩模更少，但每个EUV掩模更贵。鉴于此，7月份接受调查的大多数行业知名人士(74%)表示，EUV掩模将有助于2021年掩模收入的增长，如图1所示，这也就不足为奇了。在一个20分钟的视频，专家小组分享了他们对驱动EUV掩模定价的因素以及影响从薄膜到检验到周转时间(TAT)成本的技术挑战的观点。D2S的首席执行官Aki Fujimura首先提出了EUV掩模上形状的复杂性是否会使掩模更加昂贵的问题。Synopsys的首席工程师Tom Cecil描述了EUV掩模复杂性的演变，它发展为简单和复杂形状的混合，因为由于多光束掩模写入器的可用性，复杂形状不再需要写入时间。Photronics的CTO Chris Progler同意Tom的观点，但他指出，由于制造成本的上升，复杂性会增加掩模的价格。他指出，EUV掩模的价格已经更高，因为空白、豆荚和薄膜的制造成本占EUV掩模成本的50-60%以上。
图1:根据eBeam Initiative Luminaries, EUV掩模预计将增加掩模总收入调查2021年7月。
EUV的一个众所周知的制造挑战是薄膜的可用性。2021年，至少有一家供应商宣布可提供商用EUV薄膜。在视频中描述了薄膜的用途后，Aki Fujimura要求小组解释如何在没有薄膜的情况下制作EUV掩模。Chris Progler将EUV制造描述为一种“准工程”模式，制造商在没有薄膜的情况下做了很多工作来保持环境清洁。Chris同意Luminaries的调查结果，2023年将是薄膜的转折点，并预计随着新薄膜的采用，将会有更多的掩模检查和重新认证。
在视频中，小组继续讨论了EUV掩模检测和TAT的主题，说明了掩模制造商在试图帮助EUV发挥其潜力时所面临的一些权衡。在讨论今年调查中预测的更长的TAT时，如图2所示，Tom Cecil反映了193i光刻中双模和四模掩模的负面TAT影响。他的结论是，即使EUV TAT比之前想象的要长，它仍然比双拍要好。Chris Progler认为TAT必须做得更好，才能发挥EUV的潜力。他指出了一些积极的发展，如EUV掩模的光化检查和多光束掩模写入时间的改进，但他呼吁扫描电镜、空白检查和修复进行改进。Chris总结说，这些制造挑战导致了EUV掩模价格的上涨。
图2:在年度eBeam Initiative灯具调查中，灯具预测EUV掩模TAT甚至比去年预测的更长。
您可以观看整个82分钟的面板视频，包括多波束掩模写入器、曲线掩模和深度学习的其他主题在这里．
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