标签:EUV光掩模

2022年的调查:名人报告积极EUV对面具的影响趋势
通过eBeam倡议- 10月19日,2022 -评论:0

eBeam行动从2022年7月11日年度杰出人物调查显示•EUV视为一个积极的影响•EUV掩模收入仍采购的首要原因多波束面具作家•信心仍然很高能力曲线面具可用性的多波束面具作家少的问题今年点击这里阅读调查结果。»阅读更多

粒子从EUV光掩模
通过技术论文链接——8月31日,2022 -评论:0

这个技术论文题为“AFM-Based Hamaker常数测定与盲目提示重建”只是荷兰阿斯麦公司的研究人员发表的亚琛工业大学和AMO GmbH是一家。粒子的研究报告是真空AFM-based方法去除EUV光掩模。发现这里的技术论文。2022年8月出版。Ku, B。,凡德维特灵F。博尔顿,J。Stel, B。van de K……»阅读更多

观点为什么EUV光掩模更昂贵
通过简•威利斯12月- 20,2021 -评论:0

有更少的光掩模/晶片使用EUV光刻,但每个EUV光掩模是更加昂贵。鉴于此,这不是一个意外,大多数(74%)的受访业内名人说7月EUV光掩模将有助于增加光掩模收入2021,如图1所示。在20分钟的视频中,一个专家小组分享他们的观点是什么驱使EUV photom……»阅读更多

  • 赞助商

关于

导航

与我们联系

版权©2013 - 2023 SMG |服务条款|隐私政策
Baidu