GPU加速了面具更精确的模型。
高度期待的极端紫外线(EUV)光刻反映在最近的调查eBeam倡议,将于9月11日在每年的光掩模技术研讨会在蒙特雷,加州。
有很多改变来掩盖行业,除了EUV。这些包括更多地使用inverse-lithography技术(ILT)和多波束面具写作的出现,这就需要仿真面具。但任何模拟的精确模型。GPU加速开门的仿真校正多种复杂的面具影响物理模型的基础上,提供实用的仿真运行时对这些更复杂的模型。
d2 TrueModel是一个物理模型,它提供了d2 mask-simulation产品所需的精度当今前沿的节点。TrueModel包括建模复杂的剂量,形状和接触提供必要的精度对于今天的先进的设计甚至包括曲线设计。GPU加速使TrueModel在实际运行时提供了物理模型的准确性。TrueModel精制六代测试芯片具有独特的结构,使校准和验证先进的掩盖效应
一个新的TrueModel技术背景资料是可用的下载。TrueModel的示例应用程序提供的内联进行像素级剂量校正(PLDC) NuFlare技术能力的喜忧参半- 1000多波束面具的作家。佩尔曼瑞安从d2论文将呈现TrueModel光掩模技术研讨会,TrueModel使谈判在2017年。你可以观看视频瑞安的会谈多波束面具写面具建模的影响EUV所带来的影响面具建模。(链接tohttps: / /www.youtube.com/watch?v=iVqkoVMbK4o)
|
|
|
|
|
|
|
|
留下一个回复