标签:GPU加速

结合人工智能技术来找到最好的方法来替代硅晶体管芯片
通过技术论文链接3月- 30,2023 -评论:0

一个新的技术论文题为“AutoDMP:自动DREAMPlace-based宏观布局”是NVIDIA的研究人员发表的。文摘:“宏观位置是一个关键非常大规模集成(VLSI)物理设计问题,显著影响设计power-performance-area (PPA)指标。本文提出AutoDMP方法论,利用DREAMPlace, GPU-accelerated地方……»阅读更多

准备EUV
通过简•威利斯- 06年9月,2017 -评论:0

高度期待的极端紫外线(EUV)光刻反映在最近的调查eBeam倡议,将于9月11日在每年的光掩模技术研讨会在蒙特雷,加州有很多改变来掩盖行业,除了EUV。这些包括更多地使用inverse-lithography技术(ILT)和…»阅读更多

加速器的秘密生活
通过埃德·斯珀林- 7月27日,2017 -评论:0

加速器芯片越来越提供设备扩展一次提供的性能提升,改变基本假设数据如何移动在一个电子系统,它应该被处理。外面的世界,小似乎已经改变了。但在光滑的表面,几乎总是隐藏,加速器芯片正变得不可或缺的一部分最des……»阅读更多

在光刻和面具
通过马克LaPedus- 05年4月,2017 -评论:3

半导体工程坐下来讨论光刻和格里高利·麦金太尔光掩模技术,先进模式部门主任(getentity id = " 22217 " e_name =“Imec”);哈里·莱文森高级研究员和高级技术研究主管[getentity id = " 22819 "评论=“GlobalFoundries”);首席技术官David炸(getentity id = " 22210 " e_name = "湾……»阅读更多

大的变化模式
通过埃德·斯珀林2017年2月- 22(-评论:0

首席执行官阿基》[getentity id = " 22864 "评论=“d2”],坐下来与半导体工程在10纳米,下面讨论模式问题,包括面具对齐,GPU加速的需要,EUV的未来影响的面具,总数和脊髓的曲线形状将意味着设计。SE:模式问题是得到很多关注10 nm和7 n…»阅读更多

gpu加速经验面具模型的结束意味着什么?
通过佩尔曼瑞安10月- 20,2016 -评论:0

面具萎缩特征尺寸和增加间接影响驾驶的采用基于仿真的掩模处理。实证模型被使用最广泛的日期,因为他们是更快的模拟。今天,gpu加速使快速使用物理模型模拟。gpu加速的能力,使物理模型实用解决方案意味着经验的终结……»阅读更多

技术讨论:GPU-Accelerated光掩模
通过埃德·斯珀林——3月22日,2016 -评论:0

平Nakayamada、组管理器的数据控制工程集团NuFlare掩模光刻技术工程部,谈论什么变化在面具方面,问题点在哪里,以及如何处理它们先进的流程节点。[youtube视频= f8PixJMadXw]»阅读更多

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