中文 英语
知识中心
导航
知识中心

逆光刻技术(ILT)

寻找用于掩模的理想形状。
受欢迎程度

描述

逆光刻技术(ILT)是一种在掩模上使用非曼哈顿形状来生产更能适应制造变化的晶圆的方法。它依赖于多波束掩码写入,无论形状的复杂性如何,都以相同的速度写入掩码。另一个挑战是计算形状所需的计算能力。

曲线ILT掩模是几种类型之一光掩模,它们是IC制造供应链中的关键组件。掩模是给定IC设计的主模板。在一个掩模被开发出来之后,它被运送到晶圆厂。掩模放置在光刻扫描仪中。扫描仪通过掩模投射光线,掩模使图像在晶圆上形成图案。

典型的掩码,包括基于光学而且极端的紫外线(EUV)光刻技术,由类似矩形的微小特征组成,或所谓的曼哈顿形状。在某些情况下,掩模具有简单的曲线或直线形状。不过,在高级节点上,芯片制造商想要更高级的掩模。

这就是曲线ILT面具适合的地方。ILT使用一个数学公式来计算掩模上所需的形状,这些形状是自由形式的曲线类型。ILT不仅增加了芯片制造的工艺窗口,而且还使晶圆上的形状具有最佳性能。这对于难以打印的小而复杂的特征非常重要。

ILT不同于另一种分辨率增强技术,光学接近校正(OPC)。根据一位专家的说法,在OPC中,你从一个简单的模式开始,通过音高和特征尺寸进行筛选——这是一种校准结构。然后,您评估晶圆上的印刷适性,并创建模型以生成放置在设计模式上特定位置的工件。这给你晶圆上预期的结果。

ILT可以应用于整个掩模,但也用于热点修复,其中掩模的一部分将需要使用ILT的曲线形状。面具的其余部分将使用传统和简单的形状。

多媒体

数字孪生和DL在光刻中的应用

多媒体

曲线全芯片ILT

多媒体

技术讲座:反向光刻

Baidu