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光学光刻技术

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光学光刻技术是主流模式技术在今天的晶圆厂。扫描仪利用光学投影透镜和深紫外准分子激光光谱波长的光。最常见的激光器是基于氟化氪248 nm波长和氩氟193 nm波长。

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变化在10/7nm

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纳米光刻技术讨论:7

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技术讨论:三模式

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下一代光刻技术

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