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Invarium公司。

Lithography-modeling和方向图综合技术
受欢迎程度

描述

Invarium模式合成功能启用高级模式的分辨率和速度收益率坡道设计针对45-nanometer-and-below过程技术。Invarium的特定的专业领域方向图综合技术的发展,使优越的光掩模设计和流程优化,包括整个生产过程流从面具使光刻和蚀刻,拥有业内领先的速度。

  • 由:Apo sezgin2003年
  • 总部:美国加利福尼亚州圣何塞
  • 已知:光刻技术
  • 类型:公司

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