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CD-SEM:临界尺寸扫描电子显微镜

CD-SEM,或临界尺寸扫描电子显微镜,是一种测量掩模特征尺寸的工具。
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描述

扫描电子显微镜(SEM)通过发送电子束来进行测量,电子束与被扫描材料中的电子相互作用。这将发送回信号,这些信号由设备映射。需要映射的关键维度越多,需要处理和存储的数据量就越大。

一般来说,临界尺寸扫描电子显微镜(cd - sem)是主力计量面具店的工具。

CD-SEM足以测量传统的口罩形状。但在口罩上的图案和形状转向更复杂的过程中,CD-SEM可能会挣扎,或者可能不起作用。大多数复杂的掩模图案在经过光学接近校正(OPC)或反向光刻技术(ILT)后都没有均匀的cd。

事实上,掩模测量中存在一些挑战,特别是CD-SEM。首先,口罩制造商必须使用CD-SEM进行比以往更多的测量。此外,在掩模检测过程中标记的掩模缺陷问题数量增加,但并非所有这些都会导致晶圆上的良率问题。

此外,CD-SEM文件以数十或数百gb为单位进行测量。仅仅是能够破译这么多数据就需要更高层次的抽象。没有足够强大的设备在合理的时间内处理这些数据,也没有办法快速检索这些数据。在数据术语中,它必须被挖掘出来才有用。

这一问题在finfet中变得更加严重,它已经将CD-SEM扩展到极限。根据IBM的说法,3D晶体管的75%的检测可以使用传统的CD-SEM完成。但是仍然有大量的信息没有使用基于图像的工具来解决。随着器件几何尺寸的不断缩小,以及越来越多的特性和功能被添加到模具上,这就变得越来越麻烦。

这导致了对新方法的探索,比如原子力显微镜和一些不同检查方法的混合。


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