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化学气相沉积(CVD)

一种用于开发薄膜和聚合物涂层的工艺。
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描述

化学气相沉积(CVD)是制造半导体制造中使用的薄膜的常用方法。

化学气相沉积是一种可以追溯到20世纪50年代制造聚合物涂层的方法。涂层材料在真空室内汽化,并开始均匀地沉降在基材上。

在这种过程中有许多旋钮,包括热量、不同的前体材料和不同的基材。

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