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填满

使用金属填充来改善平整度,并管理电化学沉积(ECD),蚀刻,光刻,应力效应和快速热退火。
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描述

金属填充的使用是IC设计流程中传统且强制的一部分。最初,金属填充被用来改善平整度。填充涉及到在设计中添加结构形状或多边形,而不是逻辑。填充通过在设计中的开放区域添加非功能性金属形状,使金属在模具上的分布更加均匀。这种金属密度的均匀性有助于减少化学-机械抛光(CMP)过程中发生的厚度变化。

在旧的技术节点中,填充是添加的,通常称为浮动填充或虚拟填充。然而,填充会影响时序和信号完整性,这种影响在较小的几何图形中会被放大。与这些较小的几何图形一样,设计规则要复杂得多,要求在实现过程的早期处理填充。

除了改善平整度,填充现在还可以用于管理电化学沉积(ECD)、蚀刻、光刻、应力效应和快速热退火(RTA)。金属填料在管理制造变化的影响方面的新作用还包括理解和管理添加填料的时间效应。

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