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物理气相沉积(PVD)

PVD是一种涉及高温真空蒸发和溅射的沉积方法。
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描述

物理气相沉积一直是大马士革铜工艺的后端生产线的主力。在这个过程中,结构经历了一个扩散势垒蚀刻步骤。然后,通过电介质沉积。蚀刻步骤然后形成一个缺口,在那里线和过孔形成。

然后,利用PVD沉积了一层薄薄的钽(Ta)和氮化钽(TaN)材料屏障。Ta用于形成衬垫,TaN用于结构中的屏障。屏障层通过PVD被铜(Cu)种子屏障覆盖。最后,该结构电镀铜和地面平坦使用化学机械抛光(CMP)。

多年来,业界一直在谈论PVD的消亡,这促使人们对原子层沉积的需求。PVD在30nm以下的应用具有挑战性,但由于成本和可靠性的原因,它的使用一直持续到16/14nm。

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