什么样的设计布局目标形状将以最小的占地面积在晶圆上产生最佳性能?
在本系列博客中，我们一直关注曲线掩模的优点、推动因素和挑战。这就引出了D2S首席执行官藤村昭(Aki Fujimura)向杰出人士小组提出的一个明显的问题。如果前沿的掩模车间已经准备好通过曲线ILT、多波束掩模写入器和掩模设计链实现掩模上的曲线形状，那么我们是否可以在晶圆上实现曲线目标形状?Aki称之为“曲线设计”，并指出imec在2019年提出的研究(如图1左侧所示)，他们得出的结论是，在晶圆上瞄准曲线形状有潜在的好处。在这短短八分钟的讨论会上视频，来自美光的Ezequiel Russell和来自台积电的Danping Peng分享了他们对在晶圆上瞄准曲线形状的好处的看法。
图1:imec的研究和美光针对晶圆上曲线形状的实际示例。
Ezequiel Russell将晶圆上的曲线形状视为设计制造(DFM)的延伸。鉴于工艺限制，他提出了什么样的设计布局目标形状将产生最佳性能的晶圆与最小的占地面积的问题。他接着解释了图1右侧的图表。你所看到的是美光存储器产品的路由层，在金属路由中有曲线慢跑。他在视频中进一步讨论了美光的经验。从Ezequiel的角度来看，曲线设计的目的是在最大化密度和优化过程窗口之间找到平衡。他总结说，拥有在曲线空间中进行设计的能力有利于美光在光学接近校正(OPC)方面的工作，并在工艺窗口和对变化的敏感性方面提高了晶圆工艺性能。这就是为什么曲线晶圆形状部署在美光的许多设计。
几位小组成员指出，大自然没有曼哈顿的形状;发明它们是为了简化工作。Danping Peng引用了曲线设计如何自然地出现在光子学中，尽管特征尺寸很大，最先进的工具可以处理它。他看到了曲线设计在电路中挤出更多性能方面的好处，并提出了为什么我们不做自然允许的事情。
随着曲线掩模的采用成为现实，曲线设计的好处越来越明显，在接下来的几年里，关于这些主题将会有更多的说法。请继续关注!您可以在SPIE先进光刻电子束计划的虚拟活动期间观看完整的90分钟小组讨论在这里．
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