在开发高na EUV光刻基础设施所需的制模工艺、计量和掩模方面取得的进展
“在2025年期间，我们预计将看到首款高na极紫外(EUV)光刻设备在大批量制造环境中推出。
这些下一代光刻系统将是推动摩尔定律向逻辑2nm技术发展的关键。
在本文中，参与准备这一重大工程项目的imec科学家和工程师(与ASML合作)讨论了挑战和机遇。他们强调了在开发高na EUV光刻基础设施所需的制模工艺、计量和掩模方面取得的最新见解和进展。”
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