展望未来热点更广泛使用的曲线形状。
曲线形状光掩模导致改进过程窗口,作为第一部分本系列博客的讨论。我们的博客系列继续视频小组讨论的好处曲线形状对EUV光掩模(面具)和曲线形状是否会使用热点超越今天的使用情况。
我们的小组成员逼近曲线的问题教师EUV从技术角度和经济角度扩展初始投资的EUV工具。在这五分钟视频摘录虚拟eBeam倡议小组,丹平彭Ezequiel罗素的台积电和微米技术的解释为什么他们认为一些曲线形状将使用EUV掩(图1)。
图1:讨论EUV掩将包含一些曲线形状的原因在2021年eBeam倡议小组有先进光刻。
小组讨论了曲线教师是否会超越“热点”用于整个关键层。丹平彭讨论包括运行时的挑战但指着gpu Ezequiel罗素预测,解决障碍而全芯片关键层曲线进行使用情况将增加,因为更多的多波束面具作家将在使用。听到更多的见解在曲线教师将有广泛的应用,你可以看这4分钟视频小组讨论的摘录。
在这个博客在接下来的几个月里,我们将继续为你带来台积电的专家的观点,NuFlare技术,美光科技和d2我们探索问题的挑战曲线形状光掩模和行业是如何工作的解决方案,比如曲线数据格式。我们最后的博客看看可能会改变不仅制造半导体芯片的设计使用曲线形状。如果你不能等待,你可以看到完整的90分钟的小组活动在这里。
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