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多波束电子束光刻技术

电子束光刻技术的一种高级形式
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描述

多波束电子束光刻技术是一种先进的电子束形式,无掩模的直写光刻。而不是单光束电子束,多波束电子束利用多个光束在一个工具。这个想法是为了促进在直写光刻应用程序吞吐量。也是有吸引力的,因为它使好决议无需光掩模。

多波束电子束技术也用于面具写作,单梁电子束要快得多。多波束写时间独立照片的数量和需要大约10小时任何类型的面具。虽然不是理想的不那么复杂的面具,它是有用的EUV和一些光学面具。挑战仍在于位置精度、CD控制和数据处理。

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